雷红，男，博士，研究员，博导。

2001年获华中科技大学工学博士学位；2001-2003年清华大学摩擦学国家重点实验室博士后；2003年年3月进入上海大学纳米科学与技术研究中心工作；2008年破格晋升为研究员。主持国家自然科学基金5项，以及上海市自然科学基金、上海市纳米专项等科研项目十余项。目前发表论文八十余篇，其中SCI、EI共收录50余篇。获授权发明专利11项，申请专利6项。获得2009年上海市科技进步三等奖1项(排名第一)、2008国家科技进步二等奖1项（排名第5）、2007年度中国机械工程学会优秀论文奖（第一作者）、2005年国家教育部科技进步一等奖（排名第5）。现为中国机械工程学会高级会员，第1届微纳制造摩擦学专业委员会常务委员，第1届中国平坦化技术联盟执行委员，2005~2015年国家自然科学基金项目同行评审专家，《Journal of Electrochemical Society》、《Microelectronic Engineering》、《Applied Surface Science》、《Wear》、《Material Letter》、《中国科学》、《机械工程学报》、《无机化学学报》、《摩擦学学报》等本领域重要期刊的论文评阅人。目前在计算机硬盘CMP技术研究领域居当前国际先进水平。

研究方向：

纳米抛光材料及原子级表面平整技术

联络方式：

办公室电话：021-66137104；E-mail：hong_lei2005@163.com

代表性学术论文(5篇，限第一作者或通讯作者)

[1] Hong Lei, Kaiyu Tong. and their chemical mechanical polishing behavior on sapphire substrates, Precision Engineering, 2016, Vol. 44:124-130. 2016-2-19

[2]Hong Lei, Qian Gu. Preparation of Fe-doped colloidal SiO2 abrasives and their chemical mechanical polishing behavior on sapphire substrates. Applied Optics, 2015, 54 (24): 7188-7194

[3]Sisi Chen, Hong Lei*, and Ruling Chen. Preparation of porous alumina/ceria composite abrasive and its chemical mechanical polishing behavior. J. Vac. Sci. Technol. B, 2013, 31(2), 021804-1～021804-5

[4] Hu Li, Hong Lei*, Ruling Chen. Preparation of porous Fe2O3/SiO2 nanocomposite abrasives and their chemical mechanic polishing behaviors on hard disk substrates, Thin Solid Films, 2012, 520 (19)：6174-6178

[5] Hong Lei, Lei Jiang, Ruling Chen. Preparation of copper-incorporated mesoporous alumina abrasive and its CMP behavior on hard disk substrate, Powder Technology, 2012, 219: 99-104

代表性授权发明专利（5项，限前3名完成人）

[1]氧化铝氧化硅复合磨粒的制备方法，ZL 200610026974.2，2008.2.13

[2]核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法”，ZL200510023377.X，2008.3.19

[3]氧化铝/聚苯乙烯磺酸接枝共聚物复合磨粒及其制备方法，ZL200810200308.5，2011.8.10